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专利名称：聚偏氟乙烯多孔复合膜的制法专利类型：发明专利发明人：吕晓龙
申请号：CN98103152.8申请日：19980720公开号：CN1224730A公开日：19990804
摘要：本发明涉及聚偏氟乙烯多孔复合膜的制法。其特征是以聚偏氟乙烯或聚偏氟乙烯共混物为基膜,通过化学反应或辐照对其表面改性,使之形成C=C、－OH、－COOH、－COOR或自由基的活性增长点,再使基膜与功能性高分子或聚合物单体进行接枝反应,使其表面形成疏松型复合层;对于本身已具有C=C、－OH、－COOH、COOR或自由基的聚偏氟乙烯共混物基膜,直接进行接枝反应,形成疏松型复合层。本发明方法所得产品具有更好的抗污染性和选择分离效果。
申请人：天津纺织工学院膜天膜技术工程公司
地址：300160 天津市河东区程林庄路63号
国籍：CN
代理机构：天津师范大学专利事务所
代理人：李济群
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