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高纯度冶金硅及其制备方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:高纯度冶金硅及其制备方法专利类型:发明专利

发明人:G·巴路爱斯,Y·卡拉提尼,Y·德兰诺伊,C·特拉西申请号:CN02816233.1申请日:20020722公开号:CN1543436A公开日:20041103

摘要:本发明涉及一种专门设计用于制造太阳能电池的硅,其中,杂质的总含量为100-400ppm,硼含量为0.5-3ppm,磷/硼之比为1-3,金属元素的含量为30-300ppm。本发明也涉及一种由氧气或氯气精炼的、含有低于500ppm金属元素的冶金硅制备这种硅的方法,而且,该方法包括:在装备有热坩埚的电炉中,中性气氛下,将所述精炼硅重新熔化;在装备有热坩埚的电炉中移动硅熔体,以便进行等离子体精炼;采用一种混合气体作为等离子体形成气体进行等离子体精炼,所述混合气体包含氩以及至少一种选自于氯、氟、HCl和HF的气体;在铸锭模中,可控气氛下进行铸造,铸造期间,发生偏析凝固。

申请人:英温西尔公司,国家科研中心

地址:法国尚贝里

国籍:FR

代理机构:中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人:蔡胜有

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