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专利名称：光刻系统中照明均匀性测量方法专利类型：发明专利
发明人：王丽萍,谢耀,周烽,王君,王辉,郭本银,金春水申请号：CN201510960085.2申请日：20151221公开号：CN105446086A公开日：20160330
摘要：光刻系统中照明均匀性测量方法，涉及光刻技术领域，解决现有方法存在由于曝光视场内曝光剂量不均匀，导致局部过曝光和局部欠曝光，从而引起图案断裂或连接等问题，本发明所述的测量方法，曝光光源在通过前组光学元件和后组光学元件后，投射到掩模面上的光强分布情况，测量过程中，通过在曝光光学系统掩模面处安装的小孔探测器XY方向扫描实现照明均匀性分析。一方面，通过采用扫描的方式对掩模面的光强进行全场测量，或者整个曝光视场的光强分布，表征掩模照明均匀性；另一方面，该方法通过同时对光源和掩模的测量，剔除因光源不稳定性造成的测量误差，更为准确地获得了因照明系统在掩模面的照明均匀性。
申请人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
地址：130033 吉林春市东南湖大路3888号
国籍：CN
代理机构：长春菁华专利商标代理事务所
代理人：朱红玲
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