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专利名称：一种铜靶材及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：刘科海,寇金宗,张志强,丁志强,陈益,王恩哥申请号：CN2020115165.6申请日：20201231公开号：CN112795876A公开日：20210514
摘要：本申请提供一种铜靶材及其制备方法，属于溅射材料领域。铜靶材包括沿靶材厚度方向层叠设置的多个无晶界铜层，每个无晶界铜层的晶格取向相同且均为Cu(111)、Cu(110)、Cu(211)和Cu(100)中的一种。铜靶材的制备方法包括：将多个无晶界铜层沿靶材厚度方向层叠设置，然后进行加热辊压。该铜靶材制备方便，铜靶材整体一致性较好，且能有效改善铜靶材局部杂质和裂纹严重的问题。
申请人：松山湖材料实验室
地址：523000 广东省东莞市松山湖大学创新城A1栋
国籍：CN
代理机构：北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人：唐菲
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