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专利名称：CMP研磨剂及其制造方法专利类型：发明专利发明人：戚明海
申请号：CN201711322165.0申请日：20171212公开号：CN107841288A公开日：20180327
摘要：本发明公开一种CMP研磨剂及其制造方法,包括碳球研磨粒子和保护剂,保护剂由水解乳蛋白、聚乙二醇、羟苯乙酯、异丙酮、肉豆蔻酸、水杨酸以及余量的水组成。所述的碳球研磨粒子，可为直径为5‑80纳米的碳球。一种CMP研磨剂的制造方法，其特征在于，1）取合适比例的水解乳蛋白、羟苯乙酯、异丙酮、肉豆蔻酸、水杨酸和水，在室温下混合形成有机溶液；2）在有机溶液中逐渐加入聚乙二醇，并不断搅拌调节溶液的粘度；3）加入碳球研磨粒子振荡、搅拌形成悬浮状的溶液。在本发明的CMP步骤中，能够降低对有机半导体层的刮擦等缺陷。
申请人：戚明海
地址：225500 江苏省泰州市姜堰区人民中路261
国籍：CN
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